SANTIAGO.- El diseñador chileno
Matías Hernán participará en el "Digital Couture Project - Epson New York Fashion Week 2016", que se realizará durante la semana de la moda de Nueva York que comienza el próximo 10 de febrero.
El estilo de vanguardia futurista del modisto nacional se impuso en esta versión para plasmar sus diseños utilizando una impresora de sublimación, poniendo la tecnología al servicio de la creatividad en la moda.
El talento de Matías Hernán está avalado por su destacada participación en el escenario de la moda chilena desde 2009 y que se coronó con su triunfo en Project Runway LatinAmerica 2013.
El representante de Chile en el Digital Couture fue seleccionado de un grupo de destacados diseñadores nacionales, quienes compitieron en noviembre pasado por un cupo para mostrar sus diseños en las pasarelas de Nueva York.
Los participantes tuvieron que elaborar sus creaciones con la moderna herramienta tecnológica de la sublimación digital de telas, pionera en esta innovación fundamental para la moda del siglo XXI.
La propuesta de Hernán para Nueva York
Para la oportunidad, Matías Hernán desarrolló una minicolección de cuatro tenidas de temporada otoño, bajo el concepto de "Armonía y paz a través de la moda", para ser expuestas en las pasarelas de la Gran Manzana junto a los diseños de modistos de 10 países, entre ellos, Brasil, México, Colombia, Perú, Argentina, Costa Rica, Ecuador y Estados Unidos.
Los diseños serán impresos en la nueva SureColor Línea F, un equipo de alta flexibilidad cuyo mayor provecho dependerá de las capacidades creativas de los modistos.
Matías Hernán afirmó estar muy motivado con su presentación en Nueva York. "Hace mucho tiempo que estoy trabajando con la sublimación en todo su espectro en las telas que yo hago, también con pelucas, sé que va a ser muy bueno el resultado. Estoy muy contento con esta oportunidad", señaló.
